平成31年3月16日（土）に東京都文京区にて開催された「日本顕微鏡学会関東支部第43回講演会」において、応用化学科4年の佐野雄一さん（京都産業大学附属高校出身、指導教員：山中淳二准教授）が「最優秀ポスター賞」を受賞しました。本賞はポスターセッションで優秀な研究発表を行った学生に授与され、その功績を称えるとともに今後の研究活動を奨励するものです。
以下は受賞した佐野さんのメッセージです。
私は山梨大学に入学後、化学の勉強をすすめていく過程で結晶工学に興味をもちました。現在、私はクリスタル科学研究センターの有元・原研究グループとの共同研究メンバーとして、結晶格子を歪ませたSiに関する研究に指導教員とともに参画し、特に透過電子顕微鏡を用いた構造評価に関する研究を行っています。今回受賞した研究は「Si(110)基板上に成長したSiGe混晶半導体の高分解能TEM観察」です。格子を歪ませたSi(歪Si)中ではキャリア(電子や正孔)の見かけの質量が軽くなり、この結果キャリアが高い移動度を示すことが知られていますが、その歪Siを成長させるために重要な疑似基板を作製するための基礎研究です。
はじめての学会発表でしたが、このような賞を受賞できて大変驚いています。研究室では、普段から装置の性能維持のための作業や故障対応も手伝ったりしています。こうした作業を通して透過電子顕微鏡の構造を理解しながら実験してきたことが、よい成果を発表することに繋がったと思い、大変うれしく思います。今後は大学院修士課程に進学する予定です。本研究の中で新たに湧いた疑問点に対して、地道な実験を続けて学問的な解を得たいと考えています。
（※写真 左：授賞式の後に学会会場で。右：普段からよく使用している透過電子顕微鏡）
